2)第2084章 沉浸式光刻理论_人生重启二十年
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  ML也有样学样的说了这么一句话:“如果我们交不出EUV,摩尔定律就会从此停止。”

  很显然,尼康这句狂妄至极的话,也深深的刺痛了欧美西方霸权们脆弱而又敏感的,猴子的红屁股一样的神经。

  虽然迄今为止,尼康依然是光刻机行业的老大,然而以老m为首的西方财团,一直都在致力于利用风投,把天量的资金砸在欧美一些小型的新兴光刻机研发领域的企业上,期望能够培养出来一家由欧美人真正控制的世界一流的光刻机企业,至少也得和尼康打平,甚至反超式的碾压打压。

  把这家不知道天高地厚,谁才是你得主子的小东阳的光刻机企业打垮,打的资不抵债的破产清盘机器都当破烂卖。

  这样他们身为主子,看到不老实,眼睛里面没有一点的水儿,胆敢不识趣的想要在科技上超过主人的奴才倒霉,他们才会高兴的以舒心中块垒。

  于是在老m钱针引线的主导下,西门子旗下一家成立了将近二十年,里面总共只有31个员工的合资小公司ASML,则被老m看中了,推出来站台。

  集结大量欧美顶尖科研高校和一流半导体企业的力量,全力支持ASML研发新一代193nm制程以下的光刻机,去干翻不长眼的奴才。

  在这个世界上的00年的十月,光刻机的光源波长依然被卡死在193nm已经有好几年。

  尼康主张用在前代技术的基础上,采用157nm的F2激光,走稳健道路。

  而这一选择,其实有着很强烈的极限终极的意味,因为即使尼康成功的研发了157nm制程的F2激光光刻机,那么18到24个月以后呢,怎么还能研发这一类激光源已经到了极限的157nm制程天堑以下的光刻机?

  新生的EUVLLC联盟则押注更激进的极紫外技术,在对未来的展望是用仅有十几纳米的极紫外光,刻十纳米以下的芯片制程。

  也就是说,ASML现在正在研发的193nm制程以下的光刻机,使用极紫外技术,是光刻机领域一个新的征程的起点。

  正在做着从零到一,从虚无到实质的尝试性跃迁。

  假如能够成功,那么再从一到二,从二到三,则是顺理成章的依次类推递进。

  而尼康想要研发的157nmF2激光光刻机,则是一个垂垂老矣回光返照式的最后的荣光尊严和骄傲,之后则要面对着157nm制程的极限天堑无法跨越,则是注定被扫进时光的垃圾桶里面。

  这里面按道理孰优孰劣,已经是一目了然。

  但是尼康所要做的事情,有着很大的成功性,然而ASML集中数百亿资金押注极紫外光,无异于是一场世纪豪赌。

  赢了大家都去会所嫩模,输了都去砖窑搬砖下苦力,虽然两者干的都是体力活,然而一个是男人的天堂,一个是男人的炼狱。

  在赵长安的这个时代,历史上的一些微小细节还是和他记忆中的前一世有着细微的差别。

  那个在赵长安的那个时空里面,拿着自己的那一套‘沉浸式光刻’理论,跑遍世界一流的光刻机企业的林博士,在这个时空却因为突然发了财,又遇到了自己的真爱,整天享受着快乐的夫妻生活,根本就没有想到这个方法。

  假如想要降低光的波长,光源出发是根本方法,水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水,原有的193nm激光经过折射,不就直接越过了157nm的天堑,降低到132nm?

  也就是说,现在在这个世界上,只有赵长安一人知道这个‘沉浸式光刻理论’!

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